| Содержание | Предыдущая статья | Следующая статья | Поиск |
|---|
Особенности температурного тушения люминесценции автолокализованного экситона в щелочно-галоидных
кристаллах при низкотемпературной деформации
К.Шункеев, Е.Сармуханов, А.Бармина, Л.Мясникова, Ш.Сагимбаева, С.Шункеев
Актюбинский государственный педагогический институт,
030000 Актобе, Казахстан
University of Warwick, Warwick, U.K.
E-mail: shunkeev@rambler.ru, sacon@mail.ru
|
Экспериментально оценена энергия активации температурного тушения люминесценции автолокализованных экситонов в щелочно-галоидных кристаллах при низкотемпературной одноосной деформации. Обнаружено, что увеличение значения энергии активации наблюдается в ряду кристаллов KBrNaClKINaBrCsBrRbI. На основании роста значения энергии активации, характеризующей высоту потенциального барьера, разделяющего излучательный и безызлучательный (с образованием радиационных дефектов) каналы распада автолокализованных экситонов, интерпретирован эффект усиления собственной люминесценции щелочно-галоидных кристаллов при понижении симметрии решетки низкотемпературной одноосной деформацией. PACS: 71.35.Aa, 71.38.-k, 78.20.Bh, 78.55.Fv |
| PDF версия (212Kb) | Другие выпуски | Другие журналы | Помощь |
|---|
| Copyright (C) 2008, Коллектив авторов Разработано... webmaster |