ФТТ, 2007, том 49, выпуск 2

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Магнетизм слоев Со в составе многослойных пленок Co/Si

В.О.Васьковский, Г.С.Патрин\kern1pt*, Д.А.Великанов\kern1pt*, А.В.Свалов, П.А.Савин,
А.А.Ювченко, Н.Н.Щеголева\kern1pt**

Уральский государственный университет им. А.М. Горького,
620083 Екатеринбург, Россия
* Институт физики им. Л.В. Киренского Сибирского отделения Российской академии наук,
660036 Красноярск, Россия
** Институт физики металлов Уральского отделения Российской академии наук,
620219 Екатеринбург, Россия
E-mail: Vladimir.Vaskovskiy@usu.ru

(Поступила в Редакцию 29 марта 2006 г.)

В температурном интервале 4.2--300 K исследованы магнитные свойства многослойных пленок Co/Si, полученных ионным высокочастотным распылением. Установлены закономерности изменения спонтанной намагниченности и гистерезисных характеристик пленок при варьировании толщины магнитных слоев и немагнитных прослоек. Показано, что в их формировании большую роль играют межслойные интерфейсы, в которых имеет место уменьшение эффективного магнитного момента атомов Со, ослабление обменного взаимодействия и дисперсия магнитной анизотропии. Вероятной причиной образования интерфейсов является межслойное перемешивание, происходящее, по оценкам, на глубину до 15 Angstrem и активное воздействие Si на электронную структуру Co.

Работа выполнена при поддержке ФАО РНП.2.1.1 (проект 6945), РФФИ (грант N 05-02-16671-a) и РФФИ-Урал (грант N 04-02-96062). Электронно-микроскопические наблюдения осуществлены в ЦКПЭМ ИФМ УрО РАН.

PACS: 75.70.-i, 75.70.Cn

 PDF версия (266Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2007, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster