Вышедшие номера
Влияние анизотропии зонной структуры на распространение плазменных колебаний вдоль проводящего нанослоя
Савенко О.В. 1
1Ярославский государственный университет им. П.Г. Демидова, Ярославль, Россия
Email: savenko.oleg92@mail.ru
Поступила в редакцию: 15 ноября 2024 г.
В окончательной редакции: 3 февраля 2025 г.
Принята к печати: 2 июня 2025 г.
Выставление онлайн: 18 июля 2025 г.

Построена теоретическая модель распространения поверхностных плазменных колебаний в проводящем нанослое с учетом симметричного распределения зарядов на границах нанослоя. Считается, что поверхность постоянной энергии проводника представляет собой эллипсоид вращения. Частота поверхностной волны ограничена сверху частотой ближнего ИК диапазона. Толщина нанослоя может быть сравнима или меньше длины волны де Бройля носителя заряда. Поверхностное рассеяние носителей заряда учитывается через граничные условия Соффера. Получены аналитические выражения для коэффициента распространения, коэффициента затухания и длины распространения волны. Проведен анализ зависимостей характеристик поверхностной волны от безразмерных параметров: толщины проводящего слоя, частоты поверхностной волны, химического потенциала, диэлектрической проницаемости изолирующих слоев, параметров шероховатости границ раздела ?полупроводник-диэлектрик? и параметра эллиптичности изоэнергетической поверхности. Ключевые слова: поверхностный плазмон, проводящий нанослой, кинетическое уравнение, коэффициент распространения, длина распространения.
  1. С.А. Майер. Плазмоника: теория и приложения (R\&C Dynamics, М.; Ижевск, 2011)
  2. E. Kretschmann, T.L. Ferrell, C. Ashley. Phys. Rev. Lett., 42, 1312 (1979). DOI: 10.1103/PhysRevLett.42.1312
  3. G.A. Farias, A.A. Maradudin. Phys. Rev. B, 28 (10), 5675 (1983). DOI: 10.1103/PhysRevB.28.5675
  4. L.A. Moraga, R. Labbe. Phys. Rev. B, 41, 10221 (1990). DOI: 10.1103/PhysRevB.41.10221
  5. Zh. Yang, D. Gu, Y. Gao. Opt. Commun., 329, 180 (2014). DOI: 10.1016/j.optcom.2014.05.014
  6. N. Sharma, A. Joy, A.K. Mishra, R.K. Verma. Opt. Commun., 357, 120 (2015). DOI: 10.1016/j.optcom.2015.08.092
  7. Zh. Yang, Ch. Liu, Ya. Gao, J. Wang, W. Yang. Chinese Opt. Lett., 14 (4), 042401 (2016). DOI: 10.3788/COL201614.042401
  8. L. Saitta, G. Celano, C. Tosto, F. Arcadio, L. Zeni, C. Sergi, N. Cennamo, G. Cicala. Intern. J. Advanced Manufacturing Technology, 132, 5503 (2024). DOI: 10.1007/s00170-024-13649-x
  9. H.J. Zhang, Q. Yan, Y.Y. Li, T.R. Zhang, X.L. Zhang, Y.H. Wang, Y.F. Liu. Modern Phys. Lett. B, 37, 33 (2023). DOI: 10.2139/ssrn.4054450
  10. М.Э. Борисова, С.Н. Койков. Физика диэлектриков (Изд-во Ленингр. ун-та, Л., 1979)
  11. К. Блум. Теория матрицы плотности и ее приложения (Мир, М., 1983)
  12. I.A. Kuznetsova, O.V. Savenko, D.N. Romanov. Phys. Lett. A, 427, 127933 (2022). DOI: 10.1016/j.physleta.2022.127933
  13. М.И. Дьяконов, А.В. Хаецкий. ЖЭТФ, 82 (5), 1584 (1982). [M.I. D'yakonov, A.V. Khaetskii. JETP, 55 (5), 917 (1982)]
  14. O.V. Savenko, I.A. Kuznetsova. Proc. SPIE, 12157, 121570W (2022). DOI: 10.1117/12.2622544
  15. S.B. Soffer. J. Appl. Phys., 38 (4), 1710 (1967). DOI: 10.1063/1.1709746
  16. А.Б. Шмелев. УФН, 106 (3), 459 (1972). DOI: 10.3367/UFNr.0106.197203c.0459 [A.B. Shmelev. Sov. Phys. Usp., 15, 173 (1972). DOI: 10.1070/PU1972v015n02ABEH004961]
  17. И.А. Кузнецова, О.В. Савенко. ФТП, 56 (8), 794 (2022). DOI: 10.21883/FTP.2022.08.53147.33 [I.A. Kuznetsova, O.V. Savenko. Semiconductors, 56 (8), 570 (2022). DOI: 10.21883/SC.2022.08.54116.33]