Оптика и спектроскопия
Авторам
Вышедшие номера
- 2025
- 2024
- 2023
- 2022
- 2021
- 2020
- 2019
- 2018
Оптимизация технологий изготовления структур интегральной фотоники с использованием позитивного электронного резиста AR-P 6200
Киселевский В.А.1,2, Фетисенкова К.А.2, Татаринцев А.А.
2, Мельников А.Е.2, Глаз О.Г.2,3
1Институт сверхвысокочастотной полупроводниковой электроники имени В.Г. Мокерова РАН, Москва, Россия 
2Физико-технологический институт им. К.А. Валиева РАН, Москва, Россия
3Кафедра физики и технологии электротехнических материалов и компонентов, Национальный исследовательский университет “МЭИ”, Москва, Россия
2Физико-технологический институт им. К.А. Валиева РАН, Москва, Россия
3Кафедра физики и технологии электротехнических материалов и компонентов, Национальный исследовательский университет “МЭИ”, Москва, Россия
Email: sevakiselevskiy@yandex.ru, alexen96@gmail.com, glaz@ftian.ru
Поступила в редакцию: 29 октября 2024 г.
В окончательной редакции: 17 декабря 2024 г.
Принята к печати: 28 февраля 2025 г.
Выставление онлайн: 22 апреля 2025 г.
Создана методика для изготовления волноводов с каналом заданной ширины, используя электронно-лучевую литографию с применением позитивного электронного резиста AR-P 6200 (CSAR 62). Разработан технологический процесс с подобранными параметрами, позволивший изготовить тестовые структуры интегральной фотоники. Ключевые слова: волоконная оптика, электронно-лучевая литография, плазмохимическое травление, позитивный электронный резист.
- D. Melati, A. Melloni, F. Morichetti. Adv. Opt. Photon., 6, 156-224 (2014). DOI: 10.1364/AOP.6.000156
- R. Menon, A. Patel, D. Gil, H.I. Smith. Materials Today, 8 (2), 26-33 (2005). DOI: 10.1016/S1369-7021(05)00699-1
- U.D. Zeitner, M. Oliva, F. Fuchs, D. Michaelis, T. Benkenstein, T. Harzendorf, E-B. Kley, Appl. Phys. A, 109, 789-796 (2012). DOI: 10.1007/s00339-012-7346-z
- L. Thylen, L. Wosinski. Photonics Research, 2 (2), 75-81 (2014). DOI: 10.1364/PRJ.2.000075
- K. Iizuka. Engineering optics (Springer, NY., 2008). Сh. 35, p. 316-317
- A.H. Atabaki, S. Moazeni, F. Pavanello, H. Gevorgyan, J. Notaros, L. Alloatti, M.T. Wade, C. Sun, S.A. Kruger, H. Meng, K. Al Qubaisi, I. Wang, B. Zhang, A. Khilo, C.V. Baiocco, M.A. Popovic, V.M. Stojanovic, R.J. Ram. Nature, 556, 349-354 (2018). DOI: 10.1038/s41586-018-0028-z
- Y. Su, Y. Zhang, C. Qiu, X. Guo, L. Sun. Adv. Mater. Technol., 5 (8), 1901153 (2020). doi.org/10.1002/admt.201901153
- P. Dong, W. Qian, H. Liang, R. Shafiiha, D. Feng, G. Li, J.E. Cunningham, A.V. Krishnamoorthy, M. Asghari. Opt. Express, 18, 20298 (2010). DOI: 10.1364/OE.18.020298
- S. Thoms, D.S. Macintyre. J. Vacuum Sci. Technol. B, 32 (6), (2014). DOI: 10.1116/1.4899239
- А.В. Мяконьких, А.В. Шишлянников, А.А. Татаринцев, В.О. Кузьменко, К.В. Руденко, Е.С. Горнев. Микроэлектроника, 50 (5), 333-338 (2021). DOI: 10.31857/s0544126921050045
- А.А. Татаринцев, А.В. Шишлянников, К.В. Руденко, А.Е. Рогожин, А.Е. Иешкин. Микроэлектроника, 49 (3), 163?169 (2020). DOI: 10.31857/s0544126920030060
- A.V. Miakonkikh, N.A. Orlikovskiy, A.E. Rogozhin, A.A. Tatarintsev, K.V. Rudenko. Russ. Microelectron., 47 (3), 157-164 (2018). DOI: 10.1134/S1063739718030101
- K. Fetisenkova, A. Melnikov, V. Kuzmenko, A. Miakonkikh, A. Rogozhin, A. Tatarintsev, O. Glaz, V. Kiselevsky. Processes, 12 (9), 1941 (2024). DOI: 10.3390/pr12091941
- Allresist Positive E-Beam Resists AR-P 6200 (CSAR 62) product information [Электронный ресурс]. URL: https://www.allresist.com/portfolio-item/e-beam-resist- ar-p-6200-series-csar-62/
- I. Kostic, K. Vutova, E. Koleva, R. Andok, A. Bencurova, A. Konecnikova. Polymer science: research advances, practical applications and educational aspects (2016). Р. 488-497
