Вышедшие номера
Home » Оптика и спектроскопия » Год 2025, выпуск 3 » Статья стр. 292
<<<>>>
Оптимизация технологий изготовления структур интегральной фотоники с использованием позитивного электронного резиста AR-P 6200
Киселевский В.А.1,2, Фетисенкова К.А.2,3, Татаринцев А.А. 2, Мельников А.Е.2, Глаз О.Г.2,4
1Институт сверхвысокочастотной полупроводниковой электроники имени В.Г. Мокерова РАН, Москва, Россия
2Физико-технологический институт им. К.А. Валиева РАН, Москва, Россия
3Московский государственный технический университет радиотехники, электроники и автоматики, Москва, Россия Московский физико-технический институт (Государственный университет), Долгопрудный, Россия
4Кафедра физики и технологии электротехнических материалов и компонентов, Национальный исследовательский университет “МЭИ”, Москва, Россия
Email: sevakiselevskiy@yandex.ru, alexen96@gmail.com, glaz@ftian.ru
Поступила в редакцию: 29 октября 2024 г.
В окончательной редакции: 17 декабря 2024 г.
Принята к печати: 28 февраля 2025 г.
Выставление онлайн: 22 апреля 2025 г.
PDF версия
Создана методика для изготовления волноводов с каналом заданной ширины, используя электронно-лучевую литографию с применением позитивного электронного резиста AR-P 6200 (CSAR 62). Разработан технологический процесс с подобранными параметрами, позволивший изготовить тестовые структуры интегральной фотоники. Ключевые слова: волоконная оптика, электронно-лучевая литография, плазмохимическое травление, позитивный электронный резист.
  1. D. Melati, A. Melloni, F. Morichetti. Adv. Opt. Photon., 6, 156-224 (2014). DOI: 10.1364/AOP.6.000156
  2. R. Menon, A. Patel, D. Gil, H.I. Smith. Materials Today, 8 (2), 26-33 (2005). DOI: 10.1016/S1369-7021(05)00699-1
  3. U.D. Zeitner, M. Oliva, F. Fuchs, D. Michaelis, T. Benkenstein, T. Harzendorf, E-B. Kley. Appl. Phys. A, 109, 789-796 (2012). DOI: 10.1007/s00339-012-7346-z
  4. L. Thylen, L. Wosinski. Photonics Research, 2 (2), 75-81 (2014). DOI: 10.1364/PRJ.2.000075
  5. K. Iizuka. Engineering optics (Springer, NY., 2008). Сh. 35, p. 316-317
  6. A.H. Atabaki, S. Moazeni, F. Pavanello, H. Gevorgyan, J. Notaros, L. Alloatti, M.T. Wade, C. Sun, S.A. Kruger, H. Meng, K. Al Qubaisi, I. Wang, B. Zhang, A. Khilo, C.V. Baiocco, M.A. Popovic, V.M. Stojanovic, R.J. Ram. Nature, 556, 349-354 (2018). DOI: 10.1038/s41586-018-0028-z
  7. Y. Su, Y. Zhang, C. Qiu, X. Guo, L. Sun. Adv. Mater. Technol., 5 (8), 1901153 (2020). DOI: 10.1002/admt.201901153
  8. P. Dong, W. Qian, H. Liang, R. Shafiiha, D. Feng, G. Li, J.E. Cunningham, A.V. Krishnamoorthy, M. Asghari. Opt. Express, 18, 20298 (2010). DOI: 10.1364/OE.18.020298
  9. S. Thoms, D.S. Macintyre. J. Vacuum Sci. Technol. B, 32 (6), (2014). DOI: 10.1116/1.4899239
  10. А.В. Мяконьких, А.В. Шишлянников, А.А. Татаринцев, В.О. Кузьменко, К.В. Руденко, Е.С. Горнев. Микроэлектроника, 50 (5), 333-338 (2021). DOI: 10.31857/s0544126921050045
  11. А.А. Татаринцев, А.В. Шишлянников, К.В. Руденко, А.Е. Рогожин, А.Е. Иешкин. Микроэлектроника, 49 (3), 163-169 (2020). DOI: 10.31857/s0544126920030060
  12. A.V. Miakonkikh, N.A. Orlikovskiy, A.E. Rogozhin, A.A. Tatarintsev, K.V. Rudenko. Russ. Microelectron., 47 (3), 157-164 (2018). DOI: 10.1134/S1063739718030101
  13. K. Fetisenkova, A. Melnikov, V. Kuzmenko, A. Miakonkikh, A. Rogozhin, A. Tatarintsev, O. Glaz, V. Kiselevsky. Processes, 12 (9), 1941 (2024). DOI: 10.3390/pr12091941
  14. Allresist Positive E-Beam Resists AR-P 6200 (CSAR 62) product information [Электронный ресурс]. URL: https://www.allresist.com/portfolio-item/e-beam-resist- ar-p-6200-series-csar-62/
  15. I. Kostic, K. Vutova, E. Koleva, R. Andok, A. Bencurova, A. Konecnikova. Polymer science: research advances, practical applications and educational aspects (2016). Р. 488-497

Учредители

Издатель

© 2025 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук
Powered by webapplicationthemes.com - High quality HTML Theme