Вышедшие номера
Кинетика затухания теплового излучения поверхностных слоев углеродных материалов при импульсном лазерном возбуждении
Переводная версия: 10.1134/S0030400X19110298
Research Center of Biomedical Engineering, Japan, 2018 Cooperative Research at RIE, Shizuoka University, Grant No 2006
Министерство образования и науки Украины, Киевский национальный университет имени Тараса Шевченко, 16БФ051-01, 19БФ051-02
Зеленский С.Е.1, Аоки Т.2
1Киевский национальный университет им. Тараса Шевченко, Киев, Украина
2Исследовательский институт электроники, Университет Шизуоки, Хамамацу, Япония
Email: zele@univ.kiev.ua, aoki.toru@shizuoka.ac.jp
Выставление онлайн: 20 октября 2019 г.

Экспериментально и теоретически изучено затухание теплового излучения поверхностных слоев углеродных материалов при возбуждении импульсами неодимового лазера с модуляцией добротности. Обнаружено, что кривые затухания можно с удовлетворительной точностью аппроксимировать суммой двух экспоненциальных компонент с временами затухания порядка 10 и 100 ns. При облучении образцов последовательностью лазерных импульсов наблюдаемые изменения кривых затухания свечения можно представить как перераспределение интенсивности вышеупомянутых двух компонент. По результатам компьютерного моделирования сделан вывод, что время затухания свечения определяется отношением глубины проникновения лазерного излучения к длине тепловой диффузии, что открывает возможность для определения коэффициента температуропроводности исследуемого материала в тонком поверхностном слое при высоких температурах (тысячи Кельвинов). Ключевые слова: импульсное лазерное возбуждение, тепловое излучение, углеродные материалы, температуропроводность. -19