"Оптика и спектроскопия"
Издателям
Вышедшие номера
Перенос голографической структуры со слоев бихромированного желатина на подложку на основе полиметилметакрилата
Переводная версия: 10.1134/S0030400X18030116
Ганжерли Н.М. 1, Гуляев С.Н. 2, Маурер И.А. 1, Хазвалиева Д.Р. 2
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого, Санкт-Петербург, Россия
Email: nina.holo@mail.ioffe.ru, gulyaev@rphf.spbstu.ru, maureririna@yandex.ru, dianahazvalieva@mail.ru
Выставление онлайн: 17 февраля 2018 г.

Показана возможность переноса голографической структуры, первоначально зарегистрированной на слоях бихромированного желатина (БХЖ), на материал подложки из полиметилметакрилата (ПММА). В основе механизма образования вторичной рельефно-фазовой голографической структуры на поверхности ПММА лежит использование избирательного деструктивного воздействия коротковолнового УФ излучения с длиной волны менее 270 nm. Осуществлены оптимизация режимов обработки и подбор проявляющих составов на основе изопропанола и метилизобутилкетона (МИБК), что позволило создать на подложках из ПММА рельефно-фазовые голографические решетки с высокой дифракционной эффективностью (ДЭ) около 25% и максимальной глубиной поверхностного рельефа порядка 1 mum. DOI: 10.21883/OS.2018.03.45660.246-17
  • Гуляев С.Н., Ратушный В.П. // Оптический журнал. 2003. Т. 70. N 2. С. 45-49. [ Gulyaev S.N., Ratushnyi V.P. // J. Opt. Technol. 2003. V. 70. N 2. P. 105-108. doi: 10.1364/JOT.70.000105]
  • Ганжерли Н.М., Гуляев С.Н., Маурер И.А. // Письма в ЖТФ. 2016. Т. 42. Вып. 19. С. 26-30. [ Ganzherli N.M., Gulyaev S.N., Maurer I.A. // Techn. Phys. Lett. 2016. V. 42. N 10. P. 988-989. doi: 10.1134/S1063785016100060]
  • Ганжерли Н.М., Гуляев С.Н., Маурер И.А. // Оптический журнал. 2017. Т. 84. N 9. С. 1-5. [ Ganzherli N.M., Gulyaev S.N., Maurer I.A. // J. Opt. Technol. 2017. V. 84. N 9. P. 617--620. doi: 10.1364/JOT.84.000617]
  • McCord M.A., Rooks M.J. Handbook of Microlithography, Micromachining and Microfabrication / Ed. by P. Rai-Choudhury. V. 1: Microlithography. Bellingham, Washington: SPIE Optical Engineering Press, 1997. P. 139-250. doi: 10.1117/3.2265070
  • Моро У. Микролитография. М.: Мир, 1990. Ч. 1. 605 с. Ч. 2. 632 с
  • Haiducu M., Rahbar M., Foulds I.G., Johnstone R.W., Sameoto D., Parameswaran M. // J. Micromech. Microeng. 2008. V. 18. N 11. P. 115029. doi: 10.1088/0960-1317/18/11/115029
  • Johnstone R.W., Foulds I.G., Parameswaran M. // J. Vacuum Sci. Technol. B. 2008. V. 26. N 2. P. 682-685. doi: 10.1116/1.2890688
  • Гуляев С.Н. Фазовые голограммы на галоидосеребряных фотоматериалах. [Электронный ресурс] Режим доступа: http://www.ioffe.ru/loeg/denisyuk\_seminar.html
  • Shankoff T.A. // Appl. Opt. 1968. V. 7. N 10. P. 2101-2105. doi: 10.1364/AO.7.002101
  • Rooks M.J., Kratschmer E., Viswanathan R., Katine J., Fontana R.E. Jr., MacDonald S.A. // J. Vacuum Sci. Technol. B. 2002. V. 20. N 6. P. 2937-2941. doi: 10.1116/1.1524971
  • Hoole C.F., Welland M.E., Broers A.N. // Semiconductor Science and Technology. 1997. V. 12. N 9. P. 1166-1170. doi: 10.1088/0268-1242/12/9/017
  • Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

    Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.