Вышедшие номера
Home » Оптика и спектроскопия » Год 2026, выпуск 8 » Статья стр. 928
<<<>>>
Снижение перколяционного порога плёнок Ag с использованием поверхностно-активного слоя ITO
Паращук Н.С. 1, Таирова А.Э.1, Чхеидзе В.Д.1, Губина К.А.1, Бонюшкин Ю.Е. 1,2, Чаусов Д.Н. 1
1Институт общей физики им. А.М. Прохорова Российской академии наук, Лаборатория фотоники и органической электроники, Москва, Россия
2Государственный университет просвещения, Москва, Россия
Email: parashchuk.ns@mail.ru, a.tairova05@vk.com, vitaliyach2005@yandex.ru, karinaalekseevna1029@yandex.ru, d.chausov@yandex.ru
Поступила в редакцию: 24 ноября 2025 г.
В окончательной редакции: 13 января 2026 г.
Принята к печати: 3 июня 2026 г.
Выставление онлайн: 7 сентября 2026 г.
PDF версия
Исследовано влияние поверхностно-активного слоя ITO на перколяционный порог тонких металлических слоев Ag и эффективность электродов на их основе. Наблюдается смещение перколяционного порога Ag 53.3±0.1 Angstrem до 37.9±0.1 Angstrem при внедрении ITO, что способствует получению ультратонких оптически прозрачных сплошных плёнок Ag. Установлена взаимосвязь микроструктурных, электрических и оптических характеристик Ag от смещения перколяционного перехода. Показано увеличение общей эффективности структур ITO/Ag за счёт снижения поверхностного сопротивления и повышения среднего оптического пропускания, что указывает на перспективность данных структур для создания высокоэффективных прозрачных электродов. Ключевые слова: тонкие плёнки, перколяционный переход, поверхности, структурные превращения, прозрачные электроды.
  1. N. Sun, C. Jiang, Q. Li, D. Tan, S. Bi, J. Song. Journal of Materials Science: Materials in Electronics, 31 (23), 20688 (2020). DOI: 10.1007/s10854-020-04652-5
  2. Y.F. Liu, J. Feng, Y.G. Bi, D. Yin, H.B. Sun. Advanced Materials Technologies, 4 (1), 1800371 (2019). DOI: 10.1002/admt.201800371
  3. A. Salehi, X. Fu, D.H. Shin, F. So. Advanced Functional Materials, 29 (15), 1808803 (2019). DOI: 10.1002/adfm.201808803
  4. D.N. Chausov, A.D. Kurilov, N.S. Parashchuk, A.V. Nuriev, A.A. Morozov, A.D. Bozhko, V.S. Zhurkin, A.V. Kazak, S.A. Stakharniy. Applied Surface Science, 711, 163954 (2025). DOI: 10.1016/j.apsusc.2025.163954
  5. Z. Hu, J. Wang, X. Ma, J. Gao, C. Xu, K. Yang, Z. Wang, J. Zhang, F. Zhang. Nano Energy, 78, 105376 (2020). DOI: 10.1016/j.nanoen.2020.105376
  6. X. Li, P. Li, Z. Wu, D. Luo, H.Y. Yu, Z.H. Lu. Materials Reports: Energy, 1 (1), 100001 (2021). DOI: 10.1016/j.matre.2020.09.001
  7. D.T. Papanastasiou, A. Schultheiss, D. Munoz-Rojas, C. Celle, A. Carella, J.P. Simonato, D. Bellet. Advanced Functional Materials, 30 (21), 1910225 (2020). DOI: 10.1002/adfm.201910225
  8. D. Lee, G. Bang, M. Byun, D. Choi. Thin Solid Films, 697, 137835 (2020). DOI: 10.1016/j.tsf.2020.137835
  9. T. Cheng, X.L. Yang, S. Yang, L. Li, Z.T. Liu, J. Qu, C.F. Meng, X.C. Li, Y.Z. Zhang, W.Y. Lai. Advanced Functional Materials, 33 (5), 2210997 (2023). DOI: 10.1002/adfm.202210997
  10. J.W. Kim, J.I. Oh, K.S. Kim, J.W. Yu, K.J. Jung, I.-N. Cho. IEEE Access, 9, 165385 (2021). DOI: 10.1109/ACCESS.2021.3131868
  11. K.K. So, B.-J. Chen, C.H. Chan. IEEE Access, 8, 207024 (2020). DOI: 10.1109/ACCESS.2020.3037900
  12. P. Bing, J. Zhao, Q. Liu, X. Yi, Z. Li, H. Zhang, Z. Chen, J. Xu. The European Physical Journal D, 77 (4), 68 (2023). DOI: 10.1140/epjd/s10053-023-00655-z
  13. N.S. Ridhuan, N. Mohamad Nor, K. Abdul Razak, Z. Lockman, N.D. Zakaria. Journal of Solid State Electrochemistry, 25 (3), 1065 (2021). DOI: 10.1007/s10008-020-04884-9
  14. Н.С. Паращук, А.Д. Курилов, Ю.Е. Бонюшкин, С.А. Стахарный, А.В. Нуриев, А.А. Морозов, Д.Н. Чаусов. Инфокоммуникационные и радиоэлектронные технологии, 8 (1), 16 (2025). DOI: 10.21227/gfdj-8628
  15. V.H. Nguyen, D.T. Papanastasiou, J. Resende, L. Bardet, T. Sannicolo, C. Jimenez, D. Munoz-Rojas, N.D. Nguyen, D. Bellet. Small, 18 (19), 2106006 (2022). DOI: 10.1002/smll.202106006
  16. D.S. Ghosh, L. Martinez, S. Giurgola, P. Vergani, V. Pruneri. Optics letters, 34 (3), 325 (2009). DOI: 10.1364/OL.34.000325
  17. Y.G. Bi, Y.F. Liu, X.L. Zhang, D. Yin, W. Wang, J. Feng, H. Sun. Advanced Optical Materials, 7 (6), 1800778 (2019). DOI: 10.1002/adom.201800778
  18. Y.B. Park, C. Jeong, L.J. Guo. Advanced Electronic Materials, 8 (3), 2100970 (2022). DOI: 10.1002/aelm.202100970
  19. X. Yang, P. Gao, Z. Yang, J. Zhu, F. Huang, J. Ye. Scientific Reports, 7 (1), 44576 (2017). DOI: 10.1038/srep44576
  20. J. Yun. Advanced Functional Materials, 27 (18), 1606641 (2017). DOI: 10.1002/adfm.201606641
  21. A. Anand, M.M. Islam, R. Meitzner, U.S. Schubert, H. Hoppe. Advanced Energy Materials, 11 (26), 2100875 (2021). DOI: 10.1002/aenm.202100875
  22. S. Norrman, T. Andersson, C.G. Granqvist, O. Hunderi. Phys. Rev. B, 18 (2), 674 (1978). DOI: 10.1103/PhysRevB.18.674
  23. V. Malathy, S. Sivaranjani, V.S. Vidhya, J.J. Prince, T. Balasubramanian, C. Sanjeeviraja, M. Jayachandran. Journal of Non-Crystalline Solids, 355 (28-30), 1508 (2009). DOI: 10.1016/j.jnoncrysol.2009.04.043
  24. J. Gong, R. Dai, Z. Wang, Z. Zhang. Scientific reports, 5 (1), 9279 (2015). DOI: 10.1038/srep09279

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.

Учредители

Издатель

© 2026 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук
Powered by webapplicationthemes.com - High quality HTML Theme