ПЖТФ, 2010, том 36, выпуск 1

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Фоторазложение гексахлорбифенила излучением KrCl (222 nm) эксилампы барьерного разряда

А.А.Пикулев, В.М.Цветков

Российский федеральный ядерный центр ---
Всероссийский научно-исследовательский институт экспериментальной физики, Саров
E-mail: pikulev@expd.vniief.ru

Поступило в Редакцию 29 мая 2009 г.

Проведено исследование дехлорирования 2, 2', 4, 4', 5, 5'-гексахлорбифенила (ПХБ N 153) при воздействии УФ-излучения KrCl* (222 nm) эксилампы барьерного разряда. Был исследован фотолиз трех образцов: N 1 --- раствор ПХБ N 153 в гексане с концентрацией 10 mug/ml; N 2 --- то же с концентрацией 1 mug/ml; N 3 --- пленка ПХБ N 153 на кварцевой пластинке. Степень разложения ПХБ N 153 определялась по спектрам пропускания образцов в диапазоне 185-350 nm. Анализ спектров поглощения свидетельствует, что в первую очередь происходит отделение атомов хлора в ортоположениях (2, 2'). При интенсивности УФ-излучения на поверхности образцов 3 mW/cm2 остаточное содержание ПХБ N 153 составляет: для образца N 1 --- менее 2% после 60 min облучения; N 2 --- <3% после 25 min облучения; N 3 --- <20% после 60 min облучения.

 PDF версия (169Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2010, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster