ПЖТФ, 2009, том 35, выпуск 21

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Верхняя оценка коэффициента конверсии лазерно-плазменного источника коротковолнового излучения для нанолитографии

С.Г.Калмыков

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург
E-mail: Serguei.Kalmykov@mail.ioffe.ru

Поступило в Редакцию 26 мая 2009 г.

Лазерная плазма рассматривается в качестве источника излучения в EUV-диапазоне для нужд нанолитографии. В предположении плазмы, излучающей как черное тело, получена верхняя оценка коэффициента конверсии такого источника. Рассматриваются перспективы повышения эффективности реальных плазм, используемых в этом качестве.

PACS: 52.38.Dx, 52.50.Jm

 PDF версия (105Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2009, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster