| Содержание | Предыдущая статья | Следующая статья | Поиск |
|---|
Влияние контактов металлсегнетоэлектрик на формирование объемного заряда в сегнетоэлектрических тонкопленочных конденсаторах
А.Б.Козырев, М.М.Гайдуков, А.Г.Гагарин,
А.Г.Алтынников, С.В.Разумов, А.В.Тумаркин
Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет (ЛЭТИ)
E-mail: mcl@eltech.ru
В окончательной редакции 5 февраля 2009 г.
|
Проведены исследования быстродействия конденсаторных структур на основе пленки BaSrTiO (BSTO) с различными условиями изготовления контакта металлсегнетоэлектрик. Обнаружены пороговые напряжения возникновения остаточного объемного заряда. На основе сопоставления технологических особенностей формирования контактов и экспериментальных данных сделан вывод о возможности подавления инжекции носителей заряда в сегнетоэлектрическую пленку путем формирования контактов конденсатора PtBSTO в кислородной атмосфере. PACS: 77.55.+f, 84.32.-y, 84.32.Tt, 84.40.-x |
| PDF версия (115Kb) | Другие выпуски | Другие журналы | Помощь |
|---|
| Copyright (C) 2009, Коллектив авторов Разработано... webmaster |