ПЖТФ, 2008, том 34, выпуск 8

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Создание субмикронного металлического рисунка произвольной геометрии с использованием селективного удаления атомов кислорода из оксида молибдена

А.Г.Домантовский, К.И.Маслаков

ФГУ РНЦ \glqq Курчатовский институт\grqq, Москва
E-mail: doman-alex@yandex.ru

Поступило в Редакцию 7 сентября 2007 г.

Впервые продемонстрирована возможность изготовления субмикронных металлических структур на подложке с помощью метода селективного удаления атомов кислорода. Получены структуры металлических линий из молибдена шириной 0.35 mum и толщиной 20 nm в результате облучения протонами с энергией 3 keV пленки оксида молибдена на кремниевой подложке через маску из электронного резиста с последующим удалением резиста и участков невосстановленного оксида. Отмечается, что указанный способ может быть использован для создания структур произвольной геометрии на различных подложках.

PACS: 85.40.Hp, 61.80.Jh, 85.40.Ls

 PDF версия (110Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2008, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster