ЖТФ, 2005, том 75, выпуск 5

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Нанолитография СБИС в экстремально дальнем вакуумном ультрафиолете (Обзор)

Р.Сейсян

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН,
194021 Санкт-Петербург, Россия
e-mail: rseis@ffm.ioffe.ru

(Поступило в Редакцию 26 июля 2004 г.)

Приводятся обзор и обоснование основных идей фотолитографии высокого разрешения в экстремально дальнем вакуумно-ультрафиолетовом диапазоне спектра электромагнитного излучения, разрабатываемых применительно к созданию интегральных схем сверхвысокого уровня интеграции, превосходящих современные ИС по интеграции на 1-2 порядка. Рассматриваются проблемы и современное состояние развития разработок в этой области.

 PDF версия (726Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2005, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster