ФТТ, 2006, том 48, выпуск 10

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Формирование сверхтонких слоев силицидов железа на поверхности монокристаллического кремния

М.В.Гомоюнова, Д.Е.Малыгин, И.И.Пронин

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук,
194021 Санкт-Петербург, Россия
E-mail: marina.gomoyunova@mail.ioffe.ru

(Поступила в Редакцию 2 февраля 2006 г.)

Методом фотоэлектронной спектроскопии высокого разрешения с использованием синхротронного излучения изучен твердофазный синтез силицидов железа на поверхности Si(100)2x1, на которую при комнатной температуре была нанесена пленка железа толщиной 5 ML. С помощью компьютерного моделирования измеренных Si 2p-спектров показано, что процесс силицидообразования в исследованной системе обнаруживается уже при отжиге образца до 60oC и состоит в последовательном формировании трех фаз силицидов железа --- моносилицида varepsilon-FeSi, метастабильного дисилицида gamma-FeSi2 и дисилицида beta-FeSi2. Определены температурные диапазоны существования этих фаз. Обнаружена сегрегация кремния на поверхности gamma-FeSi2.

Работа выполнена при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований (проект N 04-02-17651), Федерального агентства по науке и инновациям РФ (госконтракт N 02.434.11.2027) и Российско-германской лаборатории на синхротроне BESSY.

PACS: 68.37.Xy, 68.43.Bc, 68.43.Dc, 68.55.Jk, 68.60.Wm

 PDF версия (197Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2006, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster