ФТТ, 2005, том 47, выпуск 1

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Ge / Si-фотодиоды и фототранзисторы со встроенными слоями квантовых точек Ge для волоконно-оптических линий связи

А.И.Якимов, А.В.Двуреченский, В.В.Кириенко, А.И.Никифоров

Институт физики полупроводников Сибирского отделения Российской академии наук,
630090 Новосибирск, Россия
E-mail: yakimov@isp.nsc.ru

На основе многослойных гетероструктур Ge / Si с квантовыми точками Ge реализованы фотоприемные элементы для волоконно-оптических линий связи (диапазон длин волн 1.3-1.55 mum), способные встраиваться в комплекс фотонных компонентов на едином кремниевом чипе. Слоевая плотность квантовых точек составляет (0.3-1)·1012 cm-2, размеры точек в плоскости роста ~10 nm. Структуры выращивались с помощью молекулярно-лучевой эпитаксии. Достигнута наименьшая из известных в литературе для Ge / Si-фотоприемников величина темнового тока при комнатной температуре (2·10-5 A / cm2 при обратном смещении 1 V). В фотодиодах и фототранзисторах с засветкой со стороны плоскости p-n-переходов квантовая эффективность составила 3% на длине волны 1.3 mum. Показано, что максимальная величина квантовой эффективности реализуется в волноводных структурах с засветкой со стороны торца волноводов и достигает значений 21 и 16% на длинах волн 1.3 и 1.5 mum соответственно.

Работа выполнена при поддержке грантов Президента РФ по поддержке молодых докторов наук (МД-28.2003.02) и INTAS (N 03-51-5051).

 PDF версия (195Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2005, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster