ФТТ, 2004, том 46, выпуск 8

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Влияние нанослоев висмута на ориентированный рост фуллерена C60 на аморфных подложках

В.Е.Пуха, В.В.Варганов, И.Ф.Михайлов, А.Н.Дроздов

Национальный технический университет \glqq Харьковский политехнический институт\grqq,
61002 Харьков, Украина
E-mail: puch@kpi.kharkov.ua

(Поступила в Редакцию 5 ноября 2003 г.)

Изучено влияние подслоя висмута с эффективной толщиной от 0.5 до 4 nm на структуру пленок фуллерена C60, выращенных методом квазизамкнутого объема на аморфных подложках (кремний, покрытый слоем естественного окисла, стекло). Методом рентгеноструктурного анализа фуллереновых пленок выявлена немонотонная зависимость соотношения интенсивностей пиков (220) и (111) от толщины подслоя. В интервале толщин подслоя висмута 0.5-2 nm в пленках фуллeрена обнаружена текстура зарождения с осью < 110>, а средний размер кристаллов составил ~20 mum. Совершенство текстуры может быть повышено путем изменения температурного режима роста фуллерена.

Работа выполнена в рамках бюджетной Научно-исследовательской программы Украины по теме М5462 \glqq Фуллереновые композиции, формирующиеся из потоков частиц компонентов повышенной энергии\grqq.

 PDF версия (130Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2004, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster