ФТТ, 2004, том 46, выпуск 8

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Легирование TiAl ванадием: исследование из первых принципов

Е.А.Смирнова, Э.И.Исаев, Ю.Х.Векилов

Московский государственный институт стали и сплавов (Технологический университет),
119049 Москва, Россия

(Поступила в Редакцию 28 октября 2003 г.)

Степень тетрагональности в TiAl и влияние на нее легирования ванадием исследованы с применением методов расчета, основанных на приближении когерентного потенциала и ab initio псевдопотенциалов. Показано, что замещение атомов подрешетки Ti ванадием приводит к росту степени тетрагональности, но при замещении атомов в алюминиевой подрешетке тетрагональность сплава TiAl : V уменьшается и при содержании ванадия около 8 at.% решетка становится практически кубической. Это в свою очередь может привести к повышению пластичности TiAl, хрупкого при низких температурах.

Работа выполнена при финансовой поддержке Российского фонда фундаментальных исследований (грант N 03-02-16970) и Королевской Шведской академии наук.

 PDF версия (131Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2004, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster