ФТТ, 2000, том 42, выпуск 7

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Рентгеноэлектронное исследование электронной структуры
систем Fe-Si

И.Н.Шабанова, Н.С.Теребова, В.И.Кормилец

Физико-технический институт Уральского отделения Российской академии наук,
426001 Ижевск, Россия
E-mail:xps@fti.udmurtia.su

(Поступила в Редакцию 16 декабря 1999 г.)

Приведены результаты исследования валентных полос сплавов Fe--Si с концентрацией Si 50 и 25 at.%, а также в области концентраций металлоида 2-20 at.%.

Рентгеноэлектронные спектры валентных полос сравниваются с зонными расчетами методом TBLMTO полной и парциальной плотности электронных состояний сплавов стехиометрического состава.

 PDF версия (110Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2000, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster