ФТП, 2010, том 44, выпуск 3

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Уменьшение поглощения в структурах кварц/Si, кварц/Si/SiO2 и SiC/Si/SiO2 под влиянием лазерной обработки

В.Н.Лисоченко\kern1pt$, Р.В.Конакова\kern1pt$, Б.Г.Коноплев\kern1pt*, В.В.Кушнир\kern1pt*,
О.Б.Охрименко\kern1pt, А.М.Светличный\kern1pt*

Институт физики полупроводников им. В.Е. Лашкарева Национальной академии наук Украины,
03028 Киев, Украина
* Таганрогский технологический институт Южного федерального университета,
347928 Таганрог, Россия
$ LIMO --- Lissotchenko--Mikrooptik GmbH,
44319 Dortmund, Germany

(Получена 10 июня 2009 г. Принята к печати 23 июня 2009 г.)

Исследовано влияние лазерного излучения на спектры оптического поглощения систем кварц/Si, кварц/Si/SiO2 и SiC/Si/SiO2. Выявлены эффекты управления прозрачностью данной структуры.

 PDF версия (538Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2010, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster