| Содержание | Предыдущая статья | Следующая статья | Поиск |
|---|
Фоточувствительные структуры на монокристаллах : создание и свойства
И.В.Боднарь, В.Ю.Рудь, Ю.В.Рудь
Белорусский государственный университет информатики и радоэлектроники,
220013 Минск, Белоруссия
Санкт-Петербургский государственный политехнический университет,
195251 Санкт-Петербург, Россия
Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук,
194021 Санкт-Петербург, Россия
(Получена 19 марта 2009 г. Принята к печати 26 марта 2009 г.)
|
Методом направленной кристаллизации близкого к стехиометрии расплава выращены однородные монокристаллы тройного соединения . Решена проблема создания фоточувствительных структур и выполнены первые исследования спектров фоточувствительности, которые позволили сделать вывод о характере межзонных оптических переходов в этом полупроводнике и оценить значения ширины запрещенной зоны для прямых и непрямых переходов. Отмечены возможности применений разработанных новых структур в широкополосных фотопреобразователях оптических излучений. PACS: 72.40.+w, 85.60.Gz, 81.05.Hd |
| PDF версия (532Kb) | Другие выпуски | Другие журналы | Помощь |
|---|
| Copyright (C) 2009, Коллектив авторов Разработано... webmaster |