ФТП, 2008, том 42, выпуск 11: page 1357...

ФТП, 2008, том 42, выпуск 11

Содержание	Предыдущая статья	Следующая статья	Поиск

Влияние электрического поля при получении пленок $a$ -SiO_x : H $<Er,O>$ методом магнетронного распыления на постоянном токе на их состав и интенсивность фотолюминесценции ионов эрбия

Ю.К.Ундалов, Е.И.Теруков, О.Б.Гусев, В.М.Лебедев⁺, И.Н. Трапезникова

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук,
194021 Санкт-Петербург, Россия
⁺ Петербургский институт ядерной физики им. Б.П. Константинова Российской академии наук,
188300 Гатчина, Россия

(Получена 23 января 2008 г. Принята к печати 28 января 2008 г.)

Исследовано влияние электрического поля на элементный состав и фотолюминесценцию пленок аморфного гидрогенизированного кремния, легированного эрбием и кислородом (

a

-SiO

_x : H

<Er,O>

), при получении их методом магнетронного распыления на постоянном токе. Изучались две серии пленок в зависимости от напряженности электрического поля магнетрона, от площади металлической эрбиевой мишени и от содержания кислорода в рабочей камере. Первая серия пленок была получена при электрически изолированном подложкодержателе, вторая --- при положительном потенциале на подложкодержателе относительно катода. Показано, что, хотя характер изменения элементного состава и интенсивность фотолюминесценции ионов эрбия Er

³⁺ в пленках двух серий значительно различаются, в обоих случаях они, в итоге, определяются процессами распыление--окисление Si- и Er-мишений, являющихся катодом.

PACS: 78.55.Qr, 81.05.Gc, 81.15.Jj

PDF версия (733Kb) Другие выпуски Другие журналы Помощь

Copyright (C) 2008, Коллектив авторов Разработано... webmaster