| Содержание | Предыдущая статья | Следующая статья | Поиск |
|---|
Термическая неустойчивость фуллеренов кремния, стабилизируемых водородом. Компьютерный эксперимент
А.Е.Галашев
Институт промышленной экологии Уральского отделения Российской академии наук,
620219 Екатеринбург, Россия
(Получена 10 июля 2007 г. Принята к печати 19 сентября 2007 г.)
|
Методом молекулярной динамики теоретически исследована структура и кинетические свойства полого однослойного кластера Si, имеющего структуру фуллерена, в области температур K. Выполнено 5 серий расчетов с созданием у кластера Si следующих сред: вакуума, внутренней области фуллерена, заполненной 30 и 60 атомами H при наличии и без наружного водородного окружения из 60 атомов. Средний радиус кластера кремния увеличивается с ростом температуры, достигая наибольшего значения при отсутствии водорода вблизи кластера и приобретая более низкие значения в случае полной компенсации свободных связей у атомов Si атомами водорода, находящимися внутри кластера, при отсутствии снаружи водородной \glqq шубы\grqq. С увеличением температуры уменьшаются среднее число Si--Si-связей , приходящихся на атом в кластере кремния, и средняя длина этих связей. Более высокую стабильность значений и во всем исследуемом температурном интервале проявляет фуллерен Si, окруженный водородной \glqq шубой\grqq и содержащий внутри себя 60 атомов H. Такой кластер имеет более низкие значения коэффициента самодиффузии при высоких температурах. Этот стабилизированный водородом фуллерен устойчив по отношению к образованию линейных цепочек атомов вплоть до температур K. PACS: 61.48.+c, 64.70.Nd, 81.05.Tp |
| PDF версия (331Kb) | Другие выпуски | Другие журналы | Помощь |
|---|
| Copyright (C) 2008, Коллектив авторов Разработано... webmaster |