ФТП, 2007, том 41, выпуск 7

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

О влиянии условий осаждения на морфологию нитевидных нанокристаллов

В.Г.Дубровский\kern1pt*,+, И.П.Сошников\kern1pt*,+, Н.В.Сибирев\kern1pt,, Г.Э.Цырлин\kern1pt*,+,,
В.М.Устинов\kern1pt*,+, M.Tchernycheva\kern1pt=/=, J.C.Harmand\kern1pt=/=

* Научно-образовательный комплекс
\glqq Санкт-Петербургский физико-технический научно-образовательный центр Российской академии наук\grqq,
195220 Санкт-Петербург, Россия
+Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук,
194021 Санкт-Петербург, Россия
Институт аналитического приборостроения Российской академии наук,
190103 Санкт-Петербург, Россия
=/=CNRS-LPN, Route de Nozay,
91460 Marcoussis, France

(Получена 7 ноября 2006 г. Принята к печати 12 декабря 2006 г.)

Представлены результаты теоретического исследования влияния условий осаждения на морфологические свойства нитевидных нанокристаллов в различных ростовых технологиях. Получены зависимости длины кристаллов от их радиуса, температуры, скорости осаждения, плотности и среднего размера капель --- катализаторов роста. Определены значения эффективной диффузионной длины адатома на поверхности подложки в различных режимах роста. Теоретические зависимости длины нитевидных нанокристаллов от радиуса и ростовой температуры поверхности подтверждены экспериментальными данными, полученными для кристаллов GaAs, выращиваемых методом молекулярно-пучковой эпитаксии на поверхности GaAs(111)B, активированной Au.

PACS: 61.46.Hk, 68.65.La, 68.37.-d, 81.07.Vb

 PDF версия (329Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2007, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster