| Содержание | Предыдущая статья | Следующая статья | Поиск |
|---|
Дислокационная люминесценция,
возникающая в монокристаллическом кремнии
после имплантации ионов кремния и последующего отжига
Н.А.Соболев, А.М.Емельянов, В.И.Сахаров, И.Т.Серенков, Е.И.Шек, Д.И.Тетельбаум
Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук,
194021 Санкт-Петербург, Россия
Научно-исследовательский физико-технический институт
Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского,
603950 Нижний Новгород, Россия
(Получена 11 сентября 2006 г. Принята к печати 3 октября 2006 г.)
|
Установлено, что имплантация ионов кремния с энергией 100 кэВ и дозой в выращенный методом бестигельной зонной плавки Si -типа проводимости не приводит к формированию аморфного слоя. Последующий отжиг в хлорсодержащей атмосфере при температуре 1100C сопровождается появлением дислокационной люминесценции. Интенсивность доминирующей линии D1 с максимумом на длине волны мкм возрастает с увеличением времени отжига от 15 до 60 мин. PACS: 61.72.Tt, 78.55.Ap, 78.55.Qr |
| PDF версия (181Kb) | Другие выпуски | Другие журналы | Помощь |
|---|
| Copyright (C) 2007, Коллектив авторов Разработано... webmaster |