ФТП, 2006, том 40, выпуск 10

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Эффекты ванье-штарковской локализации в 6H-SiC планарном полевом транзисторе с p-n-переходом в качестве затвора

В.И.Санкин, П.П.Шкребий, А.А.Лебедев

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук,
194021 Санкт-Петербург, Россия

(Получена 13 февраля 2006 г. Принята к печати 27 февраля 2006 г.)

Исследовалась зависимость фототока короткого замыкания от напряжения Vg на затворе 6H-SiC полевого планарного транзистора. При определенном значении Vg возникала отрицательная дифференциальная фотопроводимость, которая по своим параметрам соответствовала режиму ванье-штарковских лестниц в естественной сверхрешетке 6H-SiC. При этом же значении Vg происходило достаточно резкое падение к нулю тока сток--исток Isd, что означало отсечку при напряжении, существенно меньшем ожидаемого напряжения отсечки для этой структуры. Эффект объясняется падением подвижности в режиме ванье-штарковских лестниц, уменьшением скорости ионизации донорных атомов и ослаблением экранирования поля.

PACS: 85.30.Tv, 71.70.Ej, 73.40.Lq

 PDF версия (270Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2006, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster