| Содержание | Предыдущая статья | Следующая статья | Поиск |
|---|
Роль примесной зоны при переходе диэлектрик--металл при изменении состава сильно легированного и компенсированного полупроводникового твердого раствора TiCoNiSb.
Донорные примеси
В.А.Ромака, М.Г.Шеляпина, Ю.В.Стаднык, D.Fruchart , Л.П.Ромака, В.Ф.Чекурин
Институт прикладных проблем механики и математики им. Я. Пидстрыгача Национальной академии наук Украины,
79053 Львов, Украина
Национальный университет << Львовская политехника>>,
79013 Львов, Украина
Институт физики им. И.В. Фока Санкт-Петербургского государственного университета,
198504 Санкт-Петербург, Россия
Львовский национальный университет им. И. Франко,
79005 Львов, Украина
Лаборатория кристаллографии Национального центра научных исследований, ВР 166,
38042 Гренобль, Франция
(Получена 23 июня 2005 г. Принята к печати 1 декабря 2005 г.)
|
Определена роль примесной донорной зоны в проводимости сильно легированного и компенсированного интерметаллического полупроводника TiCoSb. Произведен расчет электронной структуры полупроводникового твердого раствора TiCoNiSb. Предложена модель перестройки примесной зоны полупроводника TiCoSb при легировании донорными примесями. Выявлен переход проводимости от активационной к металлической при изменении состава твердого раствора TiCoNiSb, который мы связываем с переходом Андерсона. PACS: 71.20.Nr, 71.30.+h, 72.20.Pa, 75.20.Ck, 81.05.Hd |
| PDF версия (389Kb) | Другие выпуски | Другие журналы | Помощь |
|---|
| Copyright (C) 2006, Коллектив авторов Разработано... webmaster |