ФТП, 2004, том 38, выпуск 5

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Свойства самоорганизованных SiGe-наноструктур, полученных методом ионной имплантации

Ю.Н.Пархоменко *, А.И.Белогорохов o, Н.Н.Герасименко +, А.В.Иржак*, М.Г.Лисаченко =/=

* Московский институт стали и сплавов (Технологический университет),
119936 Москва, Россия
o ФГУП \glqq Гиредмет\grqq,
119017 Москва, Россия
+ Московский государственный институт электронной техники (Технический университет),
103498 Москва, Россия
=/= Московский государственный университет им. М.В. Ломоносова (физический факультет),
119892 Москва, Россия

(Получена 29 октября 2003 г. Принята к печати 4 ноября 2003 г.)

С использованием методов оже-электронной спектроскопии, атомно-силовой и растровой электронной микроскопии исследованы свойства самоорганизованных квантовых точек SiGe, впервые сформированных с использованием метода ионно-лучевого синтеза. Обнаружено, что в имплантированных ионами германия слоях Si после их отжига проявляется пространственное коррелированное распределение атомов германия, в результате чего образуются области нанометровых размеров, обогащенные германием, в которых его концентрация на 10-12% выше, чем в окружающей матрице твердого раствора SiGe. Оптические свойства слоев с квантовыми точками SiGe исследовались с помощью методов комбинационного рассеяния света и фотолюминесценции. Обнаружен интенсивный пик фотолюминесценции в диапазоне длин волн 1.54-1.58 мкм при комнатной температуре.

 PDF версия (273Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2004, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster