| Содержание | Предыдущая статья | Следующая статья | Поиск |
|---|
Свойства самоорганизованных SiGe-наноструктур, полученных методом ионной имплантации
Ю.Н.Пархоменко , А.И.Белогорохов , Н.Н.Герасименко , А.В.Иржак, М.Г.Лисаченко
Московский институт стали и сплавов (Технологический университет),
119936 Москва, Россия
ФГУП \glqq Гиредмет\grqq,
119017 Москва, Россия
Московский государственный институт электронной техники (Технический университет),
103498 Москва, Россия
Московский государственный университет им. М.В. Ломоносова (физический факультет),
119892 Москва, Россия
(Получена 29 октября 2003 г. Принята к печати 4 ноября 2003 г.)
|
С использованием методов оже-электронной спектроскопии, атомно-силовой и растровой электронной микроскопии исследованы свойства самоорганизованных квантовых точек SiGe, впервые сформированных с использованием метода ионно-лучевого синтеза. Обнаружено, что в имплантированных ионами германия слоях Si после их отжига проявляется пространственное коррелированное распределение атомов германия, в результате чего образуются области нанометровых размеров, обогащенные германием, в которых его концентрация на выше, чем в окружающей матрице твердого раствора SiGe. Оптические свойства слоев с квантовыми точками SiGe исследовались с помощью методов комбинационного рассеяния света и фотолюминесценции. Обнаружен интенсивный пик фотолюминесценции в диапазоне длин волн мкм при комнатной температуре.
|
| PDF версия (273Kb) | Другие выпуски | Другие журналы | Помощь |
|---|
| Copyright (C) 2004, Коллектив авторов Разработано... webmaster |