ФТП, 2004, том 38, выпуск 5

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Теория туннельного токопереноса в контактах металл-полупроводник с приповерхностным изотипным delta-легированием

В.И.Шашкин , А.В.Мурель

Институт физики микроструктур Российской академии наук,
603950 Нижний Новгород, Россия

(Получена 21 октября 2003 г. Принята к печати 11 ноября 2003 г.)

Построена теория туннельного токопереноса в контактах металл-полупроводник с приповерхностным изотипным delta-легированием. На основе подхода Мерфи и Гуда, с учетом снижения высоты потенциального барьера за счет сил изображения, получены аналитические выражения для тока. Проведен расчет характеристик delta-легирования, обеспечивающего эффективную термополевую эмиссию в контакте металл-полупроводник и уменьшение эффективной высоты барьера от исходных значений до единиц kT. Установлено, что зависимость тока от напряжения в контакте с изотипным delta-легированием носит в основном экспоненциальный характер. Показано, что для всех значений высоты барьера возможно сохранение малого фактора неидеальности n=<q 1.07. Резкое его возрастание до n>=q 1.5 характерно для контактов с не полностью обедненным delta-слоем.

 PDF версия (206Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2004, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster