ФТП, 2003, том 37, выпуск 8

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Химическая нитридизация поверхности (100)GaAs:
влияние на электрофизические характеристки Au--Ti/GaAs поверхностно-барьерных структур

Т.В.Львова, В.Л.Берковиц, М.С.Дунаевский, В.М.Лантратов, И.В.Макаренко, В.П.Улин

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук,
194021 Санкт-Петербург, Россия

(Получена 10 февраля 2003 г. Принята к печати 17 февраля 2003 г.)

Исследовалось влияние химической нитридизации поверхности подложек (100) GaAs в гидразин-сульфидных растворах перед формированием барьерных контактов на параметры поверхностно-барьерных структур Au--Ti/GaAs. Структуры, сформированные на нитридизованных подложках, обнаруживают уменьшение обратных токов и увеличение напряжения пробоя. При этом высота потенциального барьера в таких структурах равна 0.71±0.02 эВ, а коэффициент идеальности составляет 1.06±0.01. Наблюдаемый эффект улучшения электрофизических параметров структур обусловлен замещением на поверхности подложки слоя естественного окисла тонким когерентным слоем нитрида галлия.

 PDF версия (1.1Mb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2003, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster