ФТП, 2003, том 37, выпуск 4

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Рекомбинационная неустойчивость тока в эпитаксиальных p+-n-структурах с локально введенными в n-область примесными атомами и определение параметров глубоких центров на ее основе

Б.С.Муравский, О.Н.Куликов , В.Н.Черный

Кубанский государственный университет,
350040 Краснодар, Россия

(Получена 25 июня 2002 г. Принята к печати 2 июля 2002 г.)

Приведены результаты исследований физических процессов, вызывающих возникновение рекомбинационной неустойчивости тока в кремниевых эпитаксиальных p+-n-структурах с локальным контактом на n-области структуры, получаемым посредством введения примесных атомов, создающих в запрещенной зоне кремния глубокие энергетические уровни.

На основе исследования неустойчивости тока определены параметры (плотность, энергетическое положение, сечение захвата электрона) глубоких центров, создаваемых в кремнии оловом, свинцом, кадмием и никелем.

 PDF версия (156Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2003, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster